中国光刻机发展现状

过去三年被限制的显示例子告知我们所有人,虽然光刻机自研的难度十分之高 , 但却是未来不能不进行的科技研发,更是不能不投入的研发资金 。
中国内地光刻机研发工艺最出众的企业 , 当属上海微电子,其将光刻机分为几个板块 , 分别进行重点研发 , 并获得了喜人的成绩 。而在28nm制程的光刻机工艺上,已然获得了不错的成绩,得到了ASML的高度赞美 。

中国光刻机发展现状

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ASML乃至表示,再给上海微电子5年时间,那么光刻机的核心科技将不再是秘密 。而除了上海微电子这类走传统线路的企业以外 , 还有大量的中国企业另辟蹊径,通过不同的方式来实现只有高端光刻机才能够完成的操作 。
【中国光刻机发展现状】像是通富微电便通过绕过光刻机的方式,实现了5nm制程工艺芯片的量产,但是芯片的整体体积仍旧需要缩?。荒洗蠊愕绺?蔷劢构饪探毫煊颍?实现了ArF光刻胶的自主生产,摆脱了对于外国企业的依赖 。不但是中国企业通过绕过光刻机方式进行半导体产业布局 , 外国企业一样采取各种方式摆脱对于EUV光刻机的依赖 。
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